PI膜石墨化炉是一种真空石墨化炉，主要应用于聚酰亚胺薄膜的石墨化，使之成为高导热石墨膜。PI膜石墨化炉也可应用于石墨烯石墨化,负极材料石墨化等碳素材料及碳碳、碳陶复合材料的烧结和石墨化，还可应用于工业陶瓷，粉末冶金材料等产品的高温烧结和石墨化。
产品介绍
PI膜石墨化炉
参数名称
用于实验
用于生产
NTG-SML-150W
NTG-SML-200W
NTG-SML-250W
NTG-SML-350W
NTG-SML-500W
NTG-SML-700W
300*300*600
350*350*800
450*450*900
520*520*1600
600*600*1600
800*800*2000
加热方式
/
IGBT
高温区容积
L
54
98
182
432
576
1280
装载量
g
高温区容积*产品密度(g/cm3)*1000 注：1L=25000px3;
输入电源
三相五线制 380V，50Hz/60Hz
设备构造
一台电源柜控制一个炉体 注：可选一拖二，或者一拖四
炉型结构
卧式
中频电源功率
Kw
150
200
250
350
500
700
中频电源频率
Hz
1500
1000
最高使用温度
℃
3000
2900
常用工作温度
2800
恒温区温差
±5
±10
±15
炉内工作环境
真空状态或Ar、N2气氛保护(微正压）
